• PVD电镀,即 物理气相沉积(Physical Vapor Deposition),是一种在真空条件下利用物理方法将材料沉积到工件表面形成薄膜的技术。它主要包括以下几种类型:真空蒸发镀膜:通过加热使材料蒸发,并在真空环境中冷凝形成薄膜。真空溅射镀膜:使用高能离子束溅射靶材,将靶材材料沉积到工件表面。